東京エレクトロン(TEL)は、300mmプロセス対応ALD(Atomic Layer Deposition)成膜装置「NT333」を製品化し、2012年10月より受注を開始すること発表した。 同装置は、従来のALD手法とは異なるコンセプトを用いることで、反応ガスの十分な吸着・酸化による原子レベルでの ...

先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町： https://cmcre.com/）では、 各種材料 ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる「ALD（原子層堆積法）」のニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「ALD（原子層堆積法）」講座 ...

Survey Reports LLCは、2025年3月、原子層蒸着装置（ALD）市場に関する調査レポートを発行したと発表した。製品別（熱ALD、金属ALD、プラズマ強化ALD、その他）アプリケーション別（電子・半導体、太陽電池、光学コーティング、医療機器、その他）タイプ別 ...

みなさんこんにちは！今日は、東北大学らが発表した電子機器内の熱流を自在に制御できるメカニズムを発見したという論文が興味深かったので、取り上げたいと思います💡 今回の発表の概要は以下の通りです👇 ・絶縁膜の熱の流れを自在に制御できる ...

2025年2月14日に、QYResearch株式会社は「高度な ALD 装置―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2025～2031」の調査レポートを発表しました。本報告書は、高度な ALD 装置の世界市場に関する売上、販売量、価格、市場シェア、主要企業の ...

『表面技術』2023年3月号を読んでいます。 読んだ記事について、気になったポイントをメモしておきたいと思います。 ALDを使って製膜した酸化物で電子デバイスを作製、評価した内容が紹介されています。 HfSiOx膜を用いたGaNキャパシタ 炭素ドープInOx系酸化 ...