話がいろいろ錯綜してくるのはここからだ。下の画像は昨年10月のスライドであるが、同社は10nmをLong-lived nodeと位置づけており、一方7nmについてはEUV(極端紫外線)を使わないものはShort-lived nodeになるとしていた。 この結果、同社は7nmのnon-EUV(つまりArF+液浸の ...

In the method using EUV in the manufacture of GAAFET, the process rule can be evolved to 3 nm at maximum. This is the world's first wafer of semiconductor chip manufactured with 5 nm process. Mr.

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