キヤノンは、ナノインプリントリソグラフィ（以下、NIL）技術を応用し、ウエハーを平坦化する「Inkjet-based Adaptive ...

キヤノン は１３日、露光装置に代わる次世代 半導体 製造装置「 ナノインプリント リソグラフィ（ＮＩＬ）装置」の技術を使い、ウエハーの平たん度を高める新装置を２０２７年に製品化すると発表した。ウエハー表面の凹凸を５ナノメートル（ナノは１０億分の１）以下に抑える。先端ロジックやメモリーで適用が増えている化学機械研磨（ＣＭＰ）などの一部工程を置き換える。露光工程中心だった装置群の拡充を目指す。

【NIKKEI ...

カメラや複合機、半導体露光装置などを手がけるキヤノン< 7751 .T>は１３日、ナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ）技術を応用、ウエハーを平坦化する「Ｉｎｋｊｅｔ－ｂａｓｅｄ　Ａｄａｐｔｉｖｅ　Ｐｌａｎａｒｉｚａｔｉｏｎ」（ＩＡＰ）技術を開発し、実用化したと発表した。

半導体製造では、成膜や配線などの工程を重ねる中で生じるウエハー表面の凹凸を均一に整える、平坦化工程が不可欠となっている。特に、微細化や3D化が進む先端半導体では、ウエハー表面のわずかな凹凸が、CD(Critical Dimension：半導体デバイス性能に影響 ...

Startup Substrate is building next-generation semiconductor fabs using advanced X-ray lithography. This goes beyond extreme ...

KD Market Insightsは、「フォトリソグラフィ材料市場：将来動向および機会分析 ― 2025～2035年」と題した市場調査レポートの発刊を発表しました。本レポートの市場範囲は、現在の市場動向および将来の成長機会に関する情報を網羅しており ...

The semiconductor industry in India is rapidly growing. Lithography, the most crucial and precise technology in chip ...

Precision alignment in semiconductor lithography demands nanometer-scale accuracy, as even minor misalignments between the mask and wafer can ...